一、離子束刻蝕系統(tǒng)（IBE）設(shè)備功能描述

1.  功能概述

該系統(tǒng)為通用離子束刻蝕系統(tǒng)，除了可進行傳統(tǒng)三維結(jié)構(gòu)刻蝕外，還可實現(xiàn)離子束清洗、材料表面終極拋光和材料減薄等功能，還可選配反應(yīng)離子束刻蝕（RIBE）。

2.  可加工材料

系統(tǒng)可用于刻蝕加工各種金屬、合金、非金屬、氧化物、氮化物、碳化物、半導體、聚合物、陶瓷、紅外和超導等各種材料。

3.  應(yīng)用領(lǐng)域

廣泛適用于半導體、光學、光電子、微電子、微機械、X射線近代光學、通信、導航、衛(wèi)星、導彈、雷達、核聚變、超導、生物、醫(yī)學、傳感器等多個技術(shù)領(lǐng)域，制造各種力、熱、聲、光、電、磁等新型材料與器件

IBE-200 P型離子束刻蝕機

離子源類型；考夫曼離子源

刻蝕材料：金屬，非金屬，合金，半導體，金屬氧化物，氮化物，碳化物，陶瓷，超導等；

該系統(tǒng)主要由考夫曼離子源、高真空工藝系統(tǒng)、恒溫水循環(huán)系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)及控制軟件構(gòu)成。適用于超微結(jié)構(gòu)的精密加工，保證了優(yōu)異的刻蝕均勻性和穩(wěn)定性。