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IBSD-1010雙離子束濺射鍍膜沉積系統(tǒng)
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功能概述 該系統(tǒng)為通用雙離子束薄膜沉積系統(tǒng)，可用于濺射沉積各種金屬、合金、Ⅲ-Ⅴ族化合物及半導(dǎo)體材料的單層薄膜、多層薄膜，也可將單質(zhì)材料通過(guò)反應(yīng)合成氧化物、氮化物、碳化物等薄膜。
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